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ASML发布最新一代3600D EUV光刻机:效率提升18%

  • 来源:互联网
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  • 2020-10-16
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作为芯片制造的核心设备,光刻机是集成了全人类科技的结晶,光刻机的性能决定了芯片的好坏,而目前ASML应该是光刻机制造领域的第一霸主,在最新的财报会议上,ASML公布了新一代的光刻机,和目前的光刻机相比,新一代光刻机在制造效率上有着比较大的提升,可以让晶圆制造更加迅速。

目前ASML最强的光刻机,TWINSCAN NXE:3600D在这一次的财报会议上正式公布了参数和规格。ASML表示3600D光刻机可以每小时曝光160块晶圆,和上代相比曝光率提升了18%,而且相对应的匹配精度也提升至1.1nm。而目前性能最出色的3400B的精度为2nm,每小时曝光125块晶圆。当然ASML也表示目前的3400B也可以提供软件更新,从而提升光刻机的性能。此外除了EUV光刻机之外,ASML也推出了新一代的DUV光刻机,为TWINSCAN NXT:2050i,将于第四季度正式出货。

至于价格的话,官方没有公布3600D的价格,不过预计一台光刻机的售价在1.2亿美元以上,并且在2021年中旬开始交付。

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  • 编辑:宋智孝
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